Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозоций

Год
2001
Библиотечный номер
1629
Авторы
Кожитов Л.В., Крапухин В.В., Улыбин В.А.
Предмет
Электроника
Специальность/направление
Приборостроение
Вид методического издания
Учебно-методическое пособие для студентов специальности 200100
Артикул
001467
Даны краткая история и пути и перспективы развития микроэлектроники, в частности, в области технологии эпитаксиальных гетерокомпозиций. Кратко описаны процессы парофазной эпитаксии химическим осаждением и жидкофазной эпитаксии кремния, соединений ????? и их твердых растворов, применяемого оборудования. Приведены математические модели этих процессов, включающие термодинамический и кинетический блоки. При получении гетерокомпозиций учитываются упругие напряжения и рассматриваются пути их устранения, в частности, создание изопериодных композиций и сверхрешеток. Кроме того, приведены восемь комплексных задач для самостоятельного вычислительного эксперимента при выборе параметров процесса, а также процедура решения задач с использованием разработанного пакета программ на ПЭВМ. Предназначено для студентов, обучающихся по специальности 200100 (направление 654100), а также для научных сотрудников и инженеров-технологов, занимающихся разработкой систем управления и оптимизации технологических процессов
Формат А5
Переплет КБС
Аудитория Студенты; специалисты
Институт Технологический университет
Кафедра Кафедра технологии материалов электроники
Издательство Издательский Дом НИТУ "МИСиС"
Библиотечн. номер 1629