Технология эпитаксиальных слоев и гетерокомпозоций
- Год
- 2001
- Библиотечный номер
- 1629
- Авторы
- Кожитов Л.В., Крапухин В.В., Улыбин В.А.
- Предмет
- Электроника
- Специальность/направление
- Приборостроение
- Вид методического издания
- Учебно-методическое пособие для студентов специальности 200100
- Артикул
- 001467
Даны краткая история и пути и перспективы развития микроэлектроники, в частности, в области технологии эпитаксиальных гетерокомпозиций. Кратко описаны процессы парофазной эпитаксии химическим осаждением и жидкофазной эпитаксии кремния, соединений ????? и их твердых растворов, применяемого оборудования. Приведены математические модели этих процессов, включающие термодинамический и кинетический блоки. При получении гетерокомпозиций учитываются упругие напряжения и рассматриваются пути их устранения, в частности, создание изопериодных композиций и сверхрешеток. Кроме того, приведены восемь комплексных задач для самостоятельного вычислительного эксперимента при выборе параметров процесса, а также процедура решения задач с использованием разработанного пакета программ на ПЭВМ. Предназначено для студентов, обучающихся по специальности 200100 (направление 654100), а также для научных сотрудников и инженеров-технологов, занимающихся разработкой систем управления и оптимизации технологических процессов
Формат | А5 |
---|---|
Переплет | КБС |
Аудитория | Студенты; специалисты |
Институт | Технологический университет |
Кафедра | Кафедра технологии материалов электроники |
Издательство | Издательский Дом НИТУ "МИСиС" |
Библиотечн. номер | 1629 |