Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур с нанометровыми размерами
- Год
- 2013
- Библиотечный номер
- 2209
- Авторы
- Юрчук С.Ю.
- Предмет
- Нанотехнологии и наноматериалы
- Специальность/направление
- Электроника и наноэлектроника
- Вид методического издания
- курс лекций
- Артикул
- 000340
Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости. Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника»
Формат | А5 |
---|---|
Переплет | Мягкий |
Аудитория | Студенты |
Кафедра | Кафедра полупроводниковой электроники и физики полупроводников |
Издательство | Издательский Дом НИТУ "МИСиС" |
Библиотечн. номер | 2209 |
ISBN | 978-5-87623-662-3 |